LDW 350/500 直写光刻机

该设备基于先进的DMD数字光刻技术，采用高精度的精密运动系统、光学系统、微环境控制系统，同时具备实时聚焦、自动居中对位等功能。

产品特点

最小线宽线距:

350nm

套刻精度：

±150nm

*以上数据来源于CFMEE实验室测试结果，具体情况可能因实际使用环境而有所不同。本公司保留对相关数据和内容进行调整的权利，恕不另行通知。

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