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      RTR 25DE/15DE 双面卷对卷直写光刻系列


      业界领先的卷对卷双面直写光刻解决方案,引领高精度引线框架制造 。双面同时曝光设计保证双面图案高度一致性和对准精度。该系统采用DMD技术,通过高精度的资料解析能力,最小可实现25μm精细线路及优异的线宽一致性和边缘粗糙度,在保证高品质的同时 ,可降低整体运行成本。

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      产品特点

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      无掩模直写曝光

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      自动纠偏

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      双面同时曝光

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      气动涨紧上料

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      适应多种尺寸规格需求

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      支持多种数据格式(GDSⅡ/Gerber/ODB++)

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      *以上数据来源于CFMEE实验室测试结果,具体情况可能因实际使用环境而有所不同。本公司保留对相关数据和内容进行调整的权利,恕不另行通知。

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